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              詳解等離子處理機的具體操作步驟

              更新時間:2024-03-26      點擊次數:681
                等離子體是一種高度電離氣體,其中包含正、負離子和自由電子,能量十分充足??梢酝ㄟ^多種方式產生,如弧放電、輝光放電、放電等離子體、微波放電等。等離子體具有高溫、高密度、高化學活性和強烈的輻射等特性。
               
                等離子處理機運用了等離子體的特性,在特定條件下通過高頻交流電源來產生等離子體,然后將等離子體按照一定的方式引導到材料表面進行處理。可以通過電離氣體產生高能電子,從而激發氣體分子與材料表面發生反應,形成新的化學鍵或者改變表面晶體結構,達到提高材料硬度、耐磨性、降低摩擦系數等效果。主要用于提高材料表面的耐腐蝕、耐磨損、附著力和界面黏合力等性能。通過等離子體所帶有的高能量、高電荷密度、高反應活性和局部加熱作用,實現表面處理。在等離子體作用下,表面原子或分子被剝離、氧化、還原或聚合等反應,進而形成新的碳氫鍵和鍵鏈結構,從而改變材料表面物理和化學性質。

              等離子處理機


              等離子處理機PLUTO-MH參數:
              真空腔尺寸 316不銹鋼腔體,q210mm*230mm(約4L)
              電極尺寸 兩個自適應平板電極,材質T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無孔平板電極, 合需要雙面處理樣品) 125*125mm間距20-75mm 可調(可反轉)
              等離子體發生器 RF射頻發生器,頻率:13.56MHz;自適應阻抗匹配電源
              功率 0-500W連續可調,精度1W
              氣體控制 針式氣體流量閥,標配1路氣體,全不銹鋼管道和連接件
              控制方式 4.3寸工業控制觸摸屏
              控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態,可顯示設置值與實際值,便于實時控制??勺杂稍O置等離子功率,通入氣體時間多級操作權限,多種工藝參數組合控制,全手動控制和全自動控制可選
              保護裝置 一鍵急停保護按鈕

              接下來介紹等離子處理機的具體操作步驟:
               
                1.先將要進行處理的材料進行清潔,以確保無附著物影響處理效果。然后將材料置于處理室內,并關閉氣密門。
               
                2.為了產生等離子體環境,需要對處理室進行真空處理,使其中的氣壓達到一定的范圍。這樣才能避免由于氧氣、水蒸汽等氣體的存在對處理效果的影響。
               
                3.通過引入不同種類的氣體,可以控制等離子體的成分和特性,如氮氣等可增強材料表面的硬度,氫氣等則可使材料透明。加入氣體的方法包括導流和噴漿兩種。
               
                4.高頻電源通過鎢絲等電極,在處理室內產生高頻電場,從而引出等離子體。
               
                5.根據不同的工藝要求和材料特性,通過調整電場、氣態分布和處理室溫度等條件,實現對材料表面的處理。
               
                6.工作結束后的清理。處理結束后,需要關閉高頻電源并排放處理室,然后取出處理后的樣品進行分析評價。
               

              等離子處理機

               

               
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